当地时间3月8日，荷兰政府以“国家安全”为由，宣布将对包括“最先进”的深紫外光刻机(DUV)在内的特定半导体制造设备实施新的出口管制。这意味着，荷兰方面已将光刻机出口管制的范围，由最先进的极紫外光刻机(EUV)扩大到了DUV。光刻机巨头ASML回应：并不适用于所有DUV。随后，ASML在一份关于增加出口管制的声明中强调，荷兰政府新出台的额外的出口管制并不涉及所有浸没式光刻设备，而只涉及所谓的“最先进”设备。尽管ASML尚未收到有关“最先进”确切定义的任何其他信息，但ASML将其解释为“关键浸没式光刻设备”，ASML将其定义为TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸没式光刻系统。

（德州华鲁德五金制品有限公司、山东电子学会供稿）